拋光原理
發(fā)布日期：2020-01-20 00:00 來(lái)源：http://carvedsignco.com 點(diǎn)擊：
光學(xué)加工中，拋光是精磨以后的一個(gè)主要工序。工件在精磨之后，雖然具有一定的光滑和規(guī)則的表面形狀，但它還不完全透明而且表面形狀也不是所要求的，需要經(jīng)過(guò)拋光才能成為所要求的拋光表面。因此拋光的目的即為：去除精磨的破壞層達(dá)到規(guī)定的外觀限度要求。精修面形，達(dá)到圖面規(guī)定的曲率半徑R值，滿足面本數(shù)NR要求及光圈局部允差（亞斯）的要求。
