半自動(dòng)電解拋光傳輸模塊技術(shù)
發(fā)布日期:2015-11-24 00:00 來(lái)源:http://carvedsignco.com 點(diǎn)擊:
一般傳統(tǒng)之金屬工件清洗系統(tǒng)為多槽串連式,其中包括酸堿洗槽及純水清洗槽,操作方式以人工為主,每個(gè)清洗槽的處理時(shí)間控制及清洗物料的潔凈處理順序流程。以工業(yè)量產(chǎn)的觀點(diǎn)來(lái)看,人力所能提重的重量有限,以及繁覆的清洗流程中易出現(xiàn)人為的失誤及操作上的安全顧慮。大型不銹鋼拋光因此配合半自動(dòng)電解拋光系統(tǒng)同時(shí)發(fā)展一套半自動(dòng)的清洗傳輸系統(tǒng),以增加電解拋光前后所需之潔凈清洗的效率及確保制程的穩(wěn)定,降低操作人員的風(fēng)險(xiǎn),提高產(chǎn)出能量。4 g7 E( [4 ^5 ? 所研發(fā)的半自動(dòng)電解拋光設(shè)備模塊(如圖一)主要期望可以單人操作,所有的操作界面及指示皆在機(jī)臺(tái)的正面,以方便為宜,另外考慮電解拋光過(guò)程的便利性及產(chǎn)能,特別要求所有的電路及液體傳導(dǎo)都在機(jī)臺(tái)內(nèi)部運(yùn)作,也可增加操作的安全性。且為改善現(xiàn)有EP化學(xué)槽的作業(yè)性,以局部自動(dòng)化作業(yè)的方式,可節(jié)省人工操作時(shí)間,并提升產(chǎn)能及產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性。
化學(xué)氣體是IC制程的主要材料,隨著IC制程線幅縮小,對(duì)于供應(yīng)氣體質(zhì)量的要求也越來(lái)越嚴(yán)苛,目前制程對(duì)Particle的容忍度已經(jīng)是在0.1ppb以下,所以對(duì)于其反應(yīng)氣體的要求自不在話下,但是對(duì)于輸送氣體的管路組件更須嚴(yán)謹(jǐn)?shù)囊?guī)范,此乃為了避免選用不當(dāng)?shù)墓苈方M件而污染制程氣體。大型不銹鋼拋光 氣體供應(yīng)系統(tǒng)的管路組件影響其管路制程氣體潔凈度的主要原因有四個(gè):: I! K& l* J. L4 {9 j9 J; }% b: s (1)產(chǎn)生particle:附著于流道表面的異物剝落,及組件材料中介在物釋出+ _; w* g4 e1 R3 x3 p (2)金屬腐蝕生成物:管路受腐蝕性氣體侵蝕造成Fe、Cr等重金屬剝離 (3)水分或氣體釋出:附著于流道表面的水分或氣體釋出 (4)制程氣體變質(zhì):管路中輸送的制程氣體因受到組件中Ni觸媒機(jī)構(gòu)的催化作用而起分解作用,例如SiH4變成Si2H6 由以上的機(jī)構(gòu)來(lái)看,如欲減少不純物的產(chǎn)生,應(yīng)該由下列方式來(lái)著手: (1)降低材料中的不純物以避免管路腐蝕而造成污染 (2)改善材料之耐蝕性能 (3)改善管路組件表面之粗糙度以減少附著堆積的現(xiàn)象 在這三個(gè)問(wèn)題的解決方式中,除第(1)項(xiàng)材料的先天問(wèn)題,必須配合選擇特殊的高潔凈不銹鋼材之外,其余第(2)(3)項(xiàng)都可以透過(guò)電解拋光(EP)的方式來(lái)解決,尤其當(dāng)材料的問(wèn)題解決,也就是采用潔凈不銹鋼材之后,EP的效果更是如虎添翼,這也就是為什么EP處理會(huì)成為高潔凈零組件標(biāo)處理程序的原因。